拓荊科技股份有限公司（以下簡稱“拓荊公司”或 “公司”）成立于2010年4月，于2021年1月12日整體變更為股份有限公司。公司位于遼寧省沈陽市渾南區，是由海外專家團隊和中科院所屬企業共同組建成立的國家高新技術企業，主要負責集成電路制造所需三大核心裝備之一的薄膜沉積裝備。 公司現主要擁有PECVD、ALD、SACVD三個薄膜設備產品系列，均擁有自主知識產權，可為客戶提供具有競爭力的高端裝備和高質量服務。公司現有產品廣泛應用于集成電路前道和后道、TSV封裝、光波導、LED、OLED顯示等高端技術領域。 公司由十余名國際資深的半導體技術、管理專家組成海外專家團隊，結合國內優秀人才，形成了一支近500人的專業隊伍，具備高科技研發實力及管理經驗，公司多次承擔國家重大項目。公司曾多次獲得中國半導體行業協會授予的“中國半導體設備五強企業”稱號。 公司總部占地80畝、總建筑面積達40,000平方米，擁有現代化辦公大樓及高等級潔凈廠房、先進和完備的無塵實驗室及系列高端薄膜實驗設備，用以研制和生產科技領先的半導體薄膜設備。為加速企業發展，公司已在北京、上海、海寧建立了研發中心及分支機構。